NVIDIA宣布台積公司(TSMC)與新思科技(Synopsys)將NVIDIA的NVIDIA cuLitho運算式微影平台投入生產，透過GPU加速運算取代CPU，將能使半導體產業運算密集型工作負載加速40至60倍，加速晶片製造，而NVIDIA Blackwell GPU也將成為受益者。NVIDIA也推出全新生成式AI演算法增強cuLitho，相較當前基於CPU的方式顯著改善半導體製造流程。
cuLitho運算式微影技術是於2023年宣布，由NVIDIA與台積電、新思科技合作的技術，透過GPU加速運算的cuLitho應用於半導體微縮，相較以往透過CPU執行微影運算更具效率。
傳統利用CPU進行微影運算，一組典型光罩就需要超過3,000萬以上小時的運算時間，透過以NVIDIA加速運算取代傳統CPU進行微影運算，僅需350個NVIDIA H100系統即可取代4萬個CPU系統，不僅加快生產時間，並能降低成本、空間與能耗。
在去年宣布cuLitho後，台積電與NVIDIA在共享工作流程測試為光罩圖形的創新圖形化技術帶來突破，共同於曲線實現45倍加速，相較限制為水平或垂直傳統曼哈頓流程更時間60倍改善。
而新思科技在NVIDIA cuLitho軟體庫上執行的Synopsys Proteus光學鄰近修正（OPC）軟體可顯著加快運算工作負載。借助Proteus光罩合成產品，台積公司等製造商可以在鄰近校正、修正模型構建以及分析已修正和未修正積體電路設計圖案的鄰近效應方面實現卓越的精度、效率和速度，從而徹底改變晶片製造製程。
同時NVIDA也開發新演算法，將生成式AI與cuLitho結合，使新版cuLitho加速流程額外提供2倍加速；透過生成式AI可考量光的繞射，建構近乎完美的反向式光罩或反向式解決方案，並透過傳統且物理嚴謹的方式得出，並將光學鄰近修正的程序加快兩倍。藉由cuLitho，將助晶圓廠在開發2nm以及以下製程設計出更新穎的解決方案。
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